国产65 纳米光刻机有重大突破

新华社从北京发回了消息,咱们国产的65纳米光刻机最近有了重大突破。以前我们在半导体这块很多关键设备都得靠进口,现在不一样了,这次把核心零件还有系统软件全都国产化了。这就意味着咱们中国在这个产业链条上的步子迈得很大,完全把主动权给抓在了手里。 这台设备已经在好多国内公司里试过了水,大家用起来都说好。精度已经追平了国际上最先进的标准,更厉害的是速度提升了30%,能耗还降了25%。这种效果直接证明了国产技术的实力,让大家对我们半导体制造的未来更有信心。 光刻技术本身就是造芯片的关键一环。以前大家都觉得分辨率上不去、用电太费是大问题,国产技术现在把这些瓶颈全给解决了。这不仅给做微处理器和存储器这些核心芯片提供了新的路子,也是中国科技自立的一个标志。 面对现在全球半导体技术竞争这么激烈的局面,咱们这次的突破不仅回应了长期依赖进口的问题,也给全球产业格局带来了不小的震动。相信这能让中国在产业链中的地位变得更稳当。 这就是新华社刚刚报出来的情况。