根据国家知识产权局公开数据,罗德施瓦兹两合股份有限公司的"用于等离子体工艺的阻抗匹配网络、等离子体控制系统及用于等离子体工艺的阻抗匹配方法"专利已获公开,公开号为CN121641800A,申请时间为2025年7月。
从真空管时代到当今的原子级制造,阻抗匹配技术始终是电子工业进步的关键支撑;罗德施瓦兹这项专利背后,反映出全球高端装备业从单一器件创新向系统级解决方案升级的趋势。在科技自立自强的战略引领下,中国产业链如何在精密制造领域构建自主技术生态,成为业界需要思考的重要课题。
根据国家知识产权局公开数据,罗德施瓦兹两合股份有限公司的"用于等离子体工艺的阻抗匹配网络、等离子体控制系统及用于等离子体工艺的阻抗匹配方法"专利已获公开,公开号为CN121641800A,申请时间为2025年7月。
从真空管时代到当今的原子级制造,阻抗匹配技术始终是电子工业进步的关键支撑;罗德施瓦兹这项专利背后,反映出全球高端装备业从单一器件创新向系统级解决方案升级的趋势。在科技自立自强的战略引领下,中国产业链如何在精密制造领域构建自主技术生态,成为业界需要思考的重要课题。