中微公司近日发布的2025年业绩预告显示，公司经营业绩保持稳健增长态势；根据财务部门初步测算，公司全年营业收入预计达到123.85亿元，较2024年增加33.19亿元——增幅达36.62%。同期——归母净利润预计20.8亿元至21.8亿元之间，相比上年同期增加4.64亿元至5.64亿元，增幅在28.74%至34.93%之间。这个业绩表现反映出公司主营业务的强劲增长动力。 从业务结构看，刻蚀设备仍是公司的核心收入来源。2025年刻蚀设备销售额预计约98.32亿元，同比增长35.12%，占营业收入的比重保持在80%以上。同时，LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入实现了更快增长，预计达5.06亿元，同比增长224.23%，成为公司新的增长亮点。这表明公司产品线不断拓展，市场覆盖面继续扩大。 需要指出，公司研发投入增速明显快于业绩增速。2025年全年研发投入预计约37.36亿元，较2024年增长12.83亿元，增幅达52.32%，研发投入占营业收入的比例约为30.16%。这一比例在国内半导体设备企业中处于较高水平，充分说明了公司对技术创新的重视程度。 从技术进展看，公司在关键工艺领域取得了显著突破。在刻蚀设备上，公司根据先进逻辑和存储器件制造中的关键刻蚀工艺实现了高端产品的大规模量产。其中，CCP反应台产品存储器刻蚀应用中的超高深宽比需求覆盖能力不断增强；ICP刻蚀设备和化学气相沉积设备的开发取得良好进展，加工精度和重复性已达到单原子水平。截至2025年底，公司刻蚀设备反应台全球累计出货超过6800台。在薄膜设备上，公司CDP产品部门开发的LPCVD、ALD等十多款导体和介质薄膜设备已顺利进入市场，设备性能达到国际领先水平。 公司业绩增长的支撑因素主要体现三个上。首先，等离子体刻蚀设备作为半导体前道工艺的核心设备，市场空间广阔，技术壁垒较高，公司产品在国内外市场获得越来越多客户的认可。其次，公司在南昌和上海临港分别建设的约14万平方米和18万平方米的生产研发基地已投入使用，产能扩张为销售增长提供了有力保障。再次，先进逻辑和存储器件制造对高端刻蚀工艺需求持续增加，公司有关产品的新增付运量提升。 从市场前景看，全球半导体产业正处于新一轮技术升级周期，对先进工艺设备的需求不断增长。公司作为国内领先的半导体设备制造商，在刻蚀设备领域的技术积累和市场地位不断巩固，薄膜设备等新产品线的快速增长为公司打开了新的增长空间。同时，公司持续加大研发投入，新产品数量快速增加，这将进一步增强公司的核心竞争力。
中微公司的业绩快报折射出中国高端装备制造业的升级轨迹。在全球科技竞争日趋激烈的当下，坚持核心技术自主研发、构建完整产业生态已成为破局关键。这家扎根中国、服务全球的半导体设备企业，正在用硬核科技实力书写从跟跑到并跑的新篇章，其发展路径为国内高技术产业突破"卡脖子"困境提供了实践样本。