有个搞特种硅器件研究的微电子研究所，那边每天会产出5到10吨的蚀刻废水。因为地方有限，大家都想弄个占地小、自动化程度又高的处理系统。不过这些废水里加了不少实验室用的特殊蚀刻剂，用老办法根本没法处理。 那废水主要是这三类：做深硅蚀刻实验时的水，里面含2000到3500毫克每升的氟离子，还有二甲基亚砜这些有机物；搞微机电系统加工时的水，含500到800毫克每升的氟离子，还有四甲基氢氧化铵这种有机碱；做新型光刻胶测试时的水，含300到500毫克每升的氟离子，酚醛树脂这种难降解的有机物也有。 这次就搞了个模块化的集装箱式处理系统。流程是这样的：先预处理，系统会自动给污水调酸碱度；接着用微涡流反应器把药给混匀，停留个15分钟就行；然后用管式膜分离，快得很，占的地儿还不到以前沉淀池的五分之一。到了高级氧化这步，用紫外光和臭氧一起氧化，能把难降解的有机物分解掉；还弄了纳米TiO2光催化，专门对付那些特殊有机物。最后是深度处理，用特种树脂把特定污染物吸走；还有电去离子装置保证出水的纯度。加药这块也是智能的，会根据水质监测数据自动优化。 最后弄下来，这整套系统占地才60平方米，全自动运行，效果很稳。氟化物浓度控制在3毫克每升以下，COD低于30毫克每升，特殊有机物的去除率能达到99.5%。设备投资大概3.5年就能回本，特别适合搞科研的机构和小半导体企业。这个案例还拿了两项国家实用新型专利呢。