全球半导体厂商竞逐先进制程的浪潮中,英特尔发布的这套测试平台意义重大。平台采用18A(1.8纳米等效)工艺,核心创新体现在两个上:RibbonFET全环绕栅极晶体管相比传统FinFET能效提升20%,PowerVia背面供电技术则将供电损耗降低30%。
芯片竞争归根结底是工艺、设计和工程能力的比拼。英特尔这次展示的测试方案,既说明了其在先进工艺上的追赶进度,更重要的是展现了对AI时代芯片需求的理解——通过创新的供电架构和封装设计来应对生成式AI的挑战。从工艺、互连到供电的系统化创新,反映了英特尔在重塑代工竞争格局中的决心。